GAA 晶體管繼任者?復(fù)旦大學(xué)團(tuán)隊(duì)公布CFET新進(jìn)展!
傳統(tǒng)集成電路技術(shù)使用平面展開的電子型和空穴型晶體管形成互補(bǔ)結(jié)構(gòu),從而獲得高性能計(jì)算能力。其密度的提高主要通過縮小單元晶體管的尺寸來實(shí)現(xiàn)。例如7nm節(jié)點(diǎn)以下業(yè)界使用極紫外光刻技術(shù)實(shí)現(xiàn)高精度尺寸微縮。由于極紫外光刻設(shè)備復(fù)雜且對(duì)我國形成了高度的技術(shù)壟斷與封鎖,在現(xiàn)有技術(shù)節(jié)點(diǎn)下能夠大幅提升集成密度的三維疊層互補(bǔ)晶體管(CFET)技術(shù)對(duì)我國重要意義凸顯。美國Intel公司和歐洲微電子研究中心(IMEC)對(duì)于...
日期:2022-12-11 閱讀:(409)查看詳情>>